Großflächige Topographiemessungen mit einem Weißlichtinterferenzmikroskop und einem metrologischen Rasterkraftmikroskop

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18994_Wu_Diss_MB_390.pdf (4.56 MB)
Diss. Reihe Maschinenbau, Band 390

Language
de
Document Type
Doctoral Thesis
Issue Date
2022-04-08
Issue Year
2022
Authors
Wu, Yiting
Editor
Franke, Jörg
Hanenkamp, Nico
Hausotte, Tino
Merklein, Marion
Schmidt, Michael
Wartzack, Sandro
Publisher
FAU University Press
ISBN
978-3-96147-514-8
Abstract

Micro- and nano measuring technology is driven by the continuous advances in manufacturing technology. The measurement tasks for micro- and nanomeasuring systems are characterized by continually decreasing structure sizes and miniaturization of the features with simultaneously increasing dimensions. Measuring instruments and technologies with high-resolution for quality assurance in the micro- and nanometer range require both quantitative, dimensional measurements with nanometer accuracy and measurements over large measuring ranges for the application of the nanotechnology in industry. White light interferometry and atomic force microscopy are two important measuring methods in micro- and nano measuring technology. However, their measuring ranges are limited. It is very important that the measuring ranges are extended up to several millimeters in order to meet current metrological challenges. The present work shows the methods for large-area topography measurement with high structural resolution using white light interferometry and atomic force microscopy. A white light interferometric microscope was integrated into the nanopositioning and nanomeasuring machine (NMM-1) for large-area topography measurements even without overlapping fields. The measurement setup, the measuring strategy, the characterization of the metrological properties, the correction of sensor tilts or rotation about the lateral axes and the vertical axis and an experimental investigation to verify the measurement strategy are presented. A new metrological atomic force microscope for simultaneous measurement of bending, torsion and position of the cantilever with improved signal quality that was also integrated into the NMM-1 for large-area topography measurements is presented. The measurement setup, the measuring strategy, the characterization, the measurement uncertainty and applications of measurement such as step height measurement, pitch determination and large-area measurements are shown.

Abstract

Die Mikro- und Nanomesstechnik wird vorangetrieben durch die stetigen Fortschritte der Fertigungstechnik. Die Messaufgaben für Mikro- und Nanomesssysteme sind geprägt von zunehmend sinkenden Strukturgrößen und Miniaturisierung der Merkmale bei zugleich zunehmender Dimensionalität. Hochauflösende Messinstrumente und Techniken zur Qualitätssicherung im Mikro- und Nanometerbereich erfordern sowohl quantitative, dimensionale Messungen mit Nanometergenauigkeit als auch Messungen über große Messbereiche, um die Nanotechnologie zu einer industriellen Nutzung zu führen. Weißlichtinterferometrie und Rasterkraftmikroskopie sind zwei wichtige Messverfahren der Mikro- und Nanomesstechnik. Allerdings sind ihre Messbereiche begrenzt. Es ist von großer Bedeutung, dass die Messbereiche bis zu mehreren Millimetern erweitert werden, um die heutigen metrologischen Herausforderungen zu erfüllen. Die vorliegende Arbeit zeigt das Vorgehen für die großflächige Topografiemessung mit hoher Strukturauflösung mittels Weißlichtinterferometrie und Rasterkraftmikroskopie. Ein Weißlichtinterferenzmikroskop wurde in die Nanopositionier- und Nanomessmaschine (NMM-1) zur großflächigen Topografiemessung auch ohne Überlappungsfelder integriert. Der Messaufbau, die Einmessstrategie, die Charakterisierung der metrologischen Eigenschaften, die Korrektur von Kippungen bzw. Drehung des Sensors um die lateralen Achsen und die vertikale Achse und eine experimentelle Untersuchung zur Verifizierung der Messstrategie werden aufgezeigt. Ein neues metrologisches Rasterkraftmikroskop für gleichzeitige Messung der Biegung, Torsion und Position des Cantilevers mit verbesserter Signalqualität, welches ebenfalls in die NMM-1 für großflächige Topografiemessungen integriert wurde, wird vorgestellt. Dabei werden der Messaufbau, die Einmessstrategie, die Charakterisierung, die Messunsicherheit und Applikationsmessungen wie Stufenhöhenmessung, Gitterabstandsbestimmung und großflächige Messungen gezeigt.

Series
FAU Studien aus dem Maschinenbau
Series Nr.
390
Citation
Notes
Parallel erschienen als Druckausgabe bei FAU University Press, ISBN: 978-3-96147-513-1
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