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Analysis of elemental composition of Fe1-xNix and Si1-xGex alloy thin films by electron probe microanalysis and micro-focus X-ray fluorescence

  • The present study reports on results of analysis of the elemental composition of thin films by electron probe microanalysis with energy dispersive (ED-EPMA) X-ray spectrometry in conjunction with the dedicated thin-film analysis software package Stratagem and by X-ray fluorescence in its version with a micro-focus X-ray fluorescence (μ-XRF) source attached to a scanning electron microscope (SEM). Two thin-film systems have been analyzed: Fe1-xNix on silicon wafer and Si1-xGex on Al2O3 substrate, in both cases the layers being grown to a thickness of about 200 nm by ion beam sputter deposition. Samples of five different atomic fractions have been produced and analyzed for each thin-film system. Moreover, reference samples with certified elemental composition and thickness have been also available. This study is part of an interlaboratory comparison organized in the frame of standardization technical committee ISO/TC 201 “Surface chemical analysis.” Two laboratories have been analyzed byThe present study reports on results of analysis of the elemental composition of thin films by electron probe microanalysis with energy dispersive (ED-EPMA) X-ray spectrometry in conjunction with the dedicated thin-film analysis software package Stratagem and by X-ray fluorescence in its version with a micro-focus X-ray fluorescence (μ-XRF) source attached to a scanning electron microscope (SEM). Two thin-film systems have been analyzed: Fe1-xNix on silicon wafer and Si1-xGex on Al2O3 substrate, in both cases the layers being grown to a thickness of about 200 nm by ion beam sputter deposition. Samples of five different atomic fractions have been produced and analyzed for each thin-film system. Moreover, reference samples with certified elemental composition and thickness have been also available. This study is part of an interlaboratory comparison organized in the frame of standardization technical committee ISO/TC 201 “Surface chemical analysis.” Two laboratories have been analyzed by ED-EPMA (one laboratory standardless and one laboratory using both standardless and with standards variants) and one laboratory by μ-XRF (standardless and with standards). All the elemental compositions obtained with different methods are in very good agreement for the complete two sets of five samples each.zeige mehrzeige weniger

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Autor*innen:Vasile-Dan HodoroabaORCiD, R. Terborg, S. Boehm, K. J. Kim
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Surface and Interface Analysis
Jahr der Erstveröffentlichung:2020
Organisationseinheit der BAM:6 Materialchemie
6 Materialchemie / 6.1 Oberflächen- und Dünnschichtanalyse
Veröffentlichende Institution:Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung (BAM)
Verlag:John Wiley & Sons Ltd
Jahrgang/Band:52
Ausgabe/Heft:12
Erste Seite:929
Letzte Seite:932
DDC-Klassifikation:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie / Analytische Chemie
Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften / Ingenieurwissenschaften und zugeordnete Tätigkeiten
Freie Schlagwörter:Electron probe microanalysis; Elemental composition; FeNi; SiGe; Thin films; X-ray Fluorescence
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM:Chemie und Prozesstechnik
Material
Material / Nano
DOI:10.1002/sia.6834
URN:urn:nbn:de:kobv:b43-509262
ISSN:0142-2421
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei für die Öffentlichkeit verfügbar ("Open Access")
Lizenz (Deutsch):License LogoCreative Commons - CC BY - Namensnennung 4.0 International
Datum der Freischaltung:22.06.2020
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:13.07.2020
Schriftenreihen ohne Nummerierung:Wissenschaftliche Artikel der BAM
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