Correlation of particle fluxes and film properties deposited by vacuum arc
Trotz der Tatsache, dass diamantähnliche Kohlenstoffschichten (DLC) seit langer Zeit bekannt und in verschiedenen Gebieten der Wissenschaft und Technik weit verbreitet sind, sind Sie immer noch Gegenstand ständigen wissenschaftlichen Interesses. Sie sind eine ganze Klasse von auf Kohlenstoff basierenden amorphen Schichten deren Eigenschaften stark von den Abscheidungs-Parametern definiert werden. In erster Linie werden die Filmeigenschaften durch Plasmaparameter (Teilchenenergie und Plasmachemie) bestimmt. Um diesen Einfluss zu demonstrieren, ist es notwendig diese Parameter getrennt zu prüfen. Jedoch gibt es nur wenige Plasmaquellen die fähig sind, diese Trennung durchzuführen. Einer von ihnen ist der Vakuumlichtbogen. Es ist eine wohlbekannte Abscheidetechnik, die in unterschiedlichen Betriebsarten arbeiten kann (kathodisch oder anodisch). Bisher sind diese Betriebsartem nur separat untersucht worden. Allerdings sind beide Betriebsarten und der Übergang zwischen ihnen nie in einem Komplex untersucht worden. Das Ziel dieser Arbeit ist es, den Einfluss der Abscheidungsparameter von Vakuumlichtbogen-Plasmaquellen, die von kathodischen zur anodischen Betriebsart einstellbar sind, auf die chemischen, optischen und mechanischen Eigenschaften von diamantähnlichen Kohlenstoffschichten zu untersuchen.
Despite the fact that diamond-like carbon (DLC) films have been known for a long time and widely used in various fields of science and technology, they are still the subject of permanent scientific interest. These films are a whole class of carbon based amorphous films which properties are strongly defined by the deposition parameters. In the first place, the film properties are determined by plasma parameters (particle energy and plasma chemistry). In order to demonstrate this influence, it is necessary to examine these parameters separately. But there are only a few plasma sources capable to perform this separation. One of them is the vacuum arc. Vacuum arc is a well-known deposition technique which can be operated in different modes (cathodic or anodic). Up to now, these modes were investigated separately. However, these modes and the transition between them were never investigated in one complex.
The aim of this work is to investigate the influence of the deposition parameters on the chemical, optical and mechanical properties of DLC films by the help of vacuum arc plasma source adjustable from cathodic to anodic arc modes.
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