Ziel dieser Arbeit war die Herstellung selbstreinigender Schichtsysteme mit hoher Transmission im Wellenlängenbereich von 380 bis 800 nm auf Floatglas mittels reaktivem DC-Sputtern. Es wurden zunächst umfassende Untersuchungen zu photokatalytisch aktiven Titanoxid-Schichten durchgeführt. Dabei wurde der Einfluss von Schichtdicke, Sputterdruck und Partialdruckverhältnis sowie die Auswirkungen einer nachfolgenden Temperung auf Struktur und Eigenschaften von SiO2-TiO2-Schichtsystemen erforscht. Weiterhin erfolgte die Untersuchung von auf TiO2 basierenden, photokatalytisch aktiven Interferenzschichtsystemen. Dazu wurden SiO2-TiO2-SnO2-Schichtsysteme abgeschieden, und der Einfluss der Schichtdicken von Titanoxid- und Zinnoxid-Schicht sowie des zur TiO2-Abscheidung genutzten Sputterdrucks und eines nachfolgenden Temperschrittes auf die Eigenschaften der Schichtsysteme untersucht. Durch die Wahl geeigneter Abscheidebedingungen und Schichtdicken konnten Schichtsysteme mit den gewünschten Eigenschaften erzeugt werden.