Startseite UR

Spectral hole burning on silicon phthalocyanines isolated in an argon matrix

URN zum Zitieren dieses Dokuments:
urn:nbn:de:bvb:355-epub-54918
DOI zum Zitieren dieses Dokuments:
10.5283/epub.5491
Braun, Dieter ; Ceulemans, Arnout ; Dick, Bernhard ; Konami, Hideo
[img]
Vorschau
PDF
(580kB)
Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 05 Aug 2009 13:50


Zusammenfassung

Irradn. of the monomeric phthalocyanine Hex3SiO(SiPc)OSiHex3 isolated in an Ar matrix at T = 13 K with the 632.8 nm line of a He/Ne laser produces a resonant spectral hole in the vibrational sideband located .apprx.700 cm-1 above the origin of the Q band. This hole is accompanied by several sideholes in the origin region. These permit a precise detn. of several excited-state vibrational ...

plus


Nur für Besitzer und Autoren: Kontrollseite des Eintrags
  1. Universität

Universitätsbibliothek

Publikationsserver

Kontakt:

Publizieren: oa@ur.de
0941 943 -4239 oder -69394

Dissertationen: dissertationen@ur.de
0941 943 -3904

Forschungsdaten: datahub@ur.de
0941 943 -5707

Ansprechpartner