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doi:10.22028/D291-24110 | Titel: | Determinação do perfil de tensão em filmes finos por microelipsometria |
| Alternativtitel: | Stress profile determination of thin films by microellipsometry |
| VerfasserIn: | De Albuquerque Barros Filho, D. Aegerter, Michel A. |
| Sprache: | Sonstige |
| Erscheinungsjahr: | 1993 |
| Quelle: | Anais / 37° Congresso Brasileiro de Cerâmica : Curitiba ; 22 a 25 de majo de 1993 / Associação Brasileira de Cerâmica. - Vol. 2. - São Paulo, SP : Associação Brasileira de Cerâmica, 1993, S. 860-867 |
| Kontrollierte Schlagwörter: | Dünne Schicht Photoelastischer Modulator Kalibrieren <Messtechnik> |
| DDC-Sachgruppe: | 500 Naturwissenschaften |
| Dokumenttyp: | Konferenzbeitrag (in einem Konferenzband / InProceedings erschienener Beitrag) |
| Abstract: | - An optical system was developed to determine the stress profile of transparent thin films by measuring the phase difference between two electromagnetic waves produced by a photoelastic modulator. The system analysis is done by the Mueller matrix of each of its optical components. The calibration and stability of the system are also analyzed. The equipment measures retardation in the range of 1-1500 Å with a spatial resolution of 30 µm. |
| Link zu diesem Datensatz: | urn:nbn:de:bsz:291-scidok-23344 hdl:20.500.11880/24166 http://dx.doi.org/10.22028/D291-24110 |
| Datum des Eintrags: | 22-Jul-2009 |
| Fakultät: | SE - Sonstige Einrichtungen |
| Fachrichtung: | SE - INM Leibniz-Institut für Neue Materialien |
| Sammlung: | INM SciDok - Der Wissenschaftsserver der Universität des Saarlandes |
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