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Controlled radical polymerization and in-depth mass-spectrometric characterization of poly(ionic liquid)s and their photopatterning on surfaces

Steinkoenig, Jan 1,2; Bloesser, Fabian R. 1,2; Huber, Birgit 1; Welle, Alexander ORCID iD icon 1,2; Trouillet, Vanessa 3,4; Weidner, SteffenM.; Barner, Leonie 1; Roesky, Peter W. 5; Yuan, Jiayin; Goldmann, Anja S. 1,2; Barner-Kowollik, Christopher 1,2
1 Institut für Biologische Grenzflächen (IBG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
4 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
5 Institut für Anorganische Chemie (AOC), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Abstract:

The preparation and characterization of poly(ionic liquid)s (PILs) bearing a polystyrene backbone via reversible addition fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization and their photolithographic patterning on silicon wafers is reported. The controlled radical polymerization of the styrenic ionic liquid (IL) monomers ([BVBIM]X, X = Cl- or Tf2N-) by RAFT polymerization is investigated in detail. We provide a general synthetic tool to access this class of PILs with controlled molecular weight and relatively narrow molecular weight distribution (2000 g mol-1 ≤ Mn ≤ 10-000 g mol-1 with dispersities between 1.4 and 1.3 for p([BVBIM]Cl); 2100 g mol-1 ≤ MP ≤ 14-000 g mol-1 for p([BVBIM]Tf2N)). More importantly, we provide an in-depth characterization of the PILs and demonstrate a detailed mass spectrometric analysis via matrix-assisted laser desorption ionization (MALDI) as well as-for the first time for PILs-electrospray ionization mass spectrometry (ESI-MS). Importantly, p([BVBIM]Cl) and p([DMVBIM]Tf2N) were photochemically patterned on silicon wafers. Therefore, a RAFT agent carrying a photoactive group based on ortho-quinodimethane chemistry-more precisely photoenol chemistry-was photochemically linked for subsequent controlled radical polymerization of [BVBIM]Cl and [DMVBIM]Tf2N. ... mehr


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000051995
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1039/c5py01320h
Scopus
Zitationen: 40
Dimensions
Zitationen: 39
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Institut für Anorganische Chemie (AOC)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1759-9954
urn:nbn:de:swb:90-519956
KITopen-ID: 1000051995
HGF-Programm 47.02.03 (POF III, LK 01) Zellpopul.auf Biofunk.Oberflächen IBG-3
Erschienen in Polymer Chemistry
Verlag Royal Society of Chemistry (RSC)
Band 7
Heft 2
Seiten 451-461
Bemerkung zur Veröffentlichung RSC geförderter Open Access-Artikel
Vorab online veröffentlicht am 26.10.2015
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
Dimensions
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