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Investigation of dielectric losses in hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin films using superconducting microwave resonators

Bruno, A.; Skacel, S. T.; Kaiser, Ch.; Wünsch, S. ORCID iD icon; Siegel, M.; Ustinov, A. V.; Lisitskiy, M. P.


Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000031600
Veröffentlicht am 22.03.2018
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.phpro.2012.06.154
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Zitationen: 7
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Zitationen: 7
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1875-3884
urn:nbn:de:swb:90-316000
KITopen-ID: 1000031600
Erschienen in Physics Procedia
Verlag Elsevier
Band 36
Seiten 245-249
Nachgewiesen in Dimensions
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