Herstellung dünner metallischer Brücken durch Elektromigration und Charakterisierung mit Rastersondentechniken
Abstract:
In der vorliegenden Arbeit werden metallische Kontakte durch Elektronenstrahllithografie oder Bedampfen durch eine Maske sowie kontrollierte Elektromigration im Ultrahochvakuum hergestellt und mittels Rastersondentechniken charakterisiert. Aus den Rastersondenbildern lassen sich in Verbindung mit den Elektromigrationsdaten Rückschlüsse auf die Entstehung der Morphologie des erzeugten Kontakts ziehen.
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Physikalisches Institut (PHI) |
| Publikationstyp | Hochschulschrift |
| Publikationsjahr | 2012 |
| Sprache | Deutsch |
| Identifikator | ISBN: 978-3-86644-843-8 ISSN: 2191-9925 urn:nbn:de:0072-275246 KITopen-ID: 1000027524 |
| Verlag | KIT Scientific Publishing |
| Umfang | IV, 98 S. |
| Serie | Experimental Condensed Matter Physics / Karlsruher Institut für Technologie, Physikalisches Institut ; 5 |
| Art der Arbeit | Dissertation |
| Fakultät | Fakultät für Physik (PHYSIK) |
| Institut | Physikalisches Institut (PHI) |
| Prüfungsdaten | 09.02.2012 |
| Schlagwörter | Elektromigration, Rastersondenmikroskopie, Nanostrukturen, Maskenbedampfung, Elektronenstrahllithografie |
| Relationen in KITopen | |
| Referent/Betreuer | Löhneysen, H. von |